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高纯砷及白砷的生产工艺

高纯砷及白砷的生产工艺 知乎

2021年11月11日  高纯砷的制取工艺 纯度在99.999%以上的高纯砷是制造砷化镓、砷化锗和硅半导体的掺杂材料,广泛用于半导体等工业部门。高纯砷的制取方法有两种,分别为

浅谈高纯砷是怎么提纯的 知乎

2020年11月9日  十七年专注于高纯及纳米材料研发生产的 国家高新技术企业 中利高纯砷将工业级白砷在250~460℃下升华提纯得到制白砷,升华过程中加入H4)2SO4或其它抑制

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高纯砷及白砷的生产工艺-金属百科高纯砷制备研究进展及趋势.pdf根据热度为您推荐•反馈

浅谈高纯砷制备技术特点及市场表现 知乎

2021年1月11日  今中利小编讲解关于高纯砷的制备技术特点及市场表现,硫化-还原法将氧化砷还原为多硫化物,然后进行氢还原制备高纯砷,可以实现循环生产,无废液、

浅谈高纯砷制备技术特点及市场表现_腾讯新闻

浅谈高纯砷制备技术特点及市场表现. 今中利小编讲解关于高纯砷的制备技术特点及市场表现,硫化-还原法将氧化砷还原为多硫化物,然后进行氢还原制备高纯砷,可以实现循

氢气还原三氯化砷制备高纯砷的工艺研究_百度文库

高温下气态氯化砷与氢气发生还原反应生成高纯砷,主 要的化学反应式如下 :2AsCl3+6H2=6HCl+2As. 取 50mL 三氯化砷加入到石英坩埚中,放入真空管式 炉,抽

高纯砷的生产方法

2007年10月17日  本发明涉及一种非金属材料的提纯生产方法,尤其涉及一种半导体基础材料超高纯α型砷的生产方法。背景技术高纯α型砷是制备光电子、微电子砷化镓;红外光

高纯砷半导体新材料可行性研究报告调价_高纯砷半导体新材料

中投信德牌的高纯砷半导体新材料可行性研究报告调价产品:估价:1999,规格:定制,产品系列编号:1 产品设计 智能产品设计 机械设计 模具设计制造 3D打印 设备维修技术培

高纯砷及白砷的生产工艺

2011年1月2日  高纯锑还原技术工艺和还原炉结构,长期以来一直制约着高纯锑的生产工艺 及技术的发展。[0004]因此,本实用新型的实用 新型人亟需构思一种新技术以改善其问题。

高纯砷半导体新材料可行性研究报告代理_高纯砷半导_北京

2023年3月11日  高纯砷半导体新材料 项目可行性研究报告编制要点 有些项目的建设体量较大,单独依靠一家企业难以建设完成,这时企业就需要编制项目可行性研究报告,向拟

高纯砷制取_百度文库

2009年2月19日  砷的化合物用于制造农药、防腐剂、染料、医药等。 由白砷制取高纯砷的工艺流程如图2,原料为含As2O399%以上的粗白砷。生产流程由升华提纯、盐酸溶解、三氯化砷精馏和水解后用高纯氢还原等过程组成。这种方法亦能生产出纯度99.9999%的高纯砷。

氢气还原三氯化砷制备高纯砷的工艺研究_百度文库

高温下气态氯化砷与氢气发生还原反应生成高纯砷,主 要的化学反应式如下 :2AsCl3+6H2=6HCl+2As. 取 50mL 三氯化砷加入到石英坩埚中,放入真空管式 炉,抽负压,按一定 n(H2)/n(As)通入高纯氢气,打开管 式炉后续冷却收集装置,保证气体进入冷却收集装置

高纯砷制备研究进展及趋势 道客巴巴

2014年6月2日  这种方法可以生产出纯度99.9999%的高纯砷。 图 2 液相氯化-还原法工艺流程图 将工业级白砷在 250~460 ℃下升华提纯得到精制白砷 , 升华过程中加入(NH4)2SO4或其它抑制剂可以防止铅、 锡、 铁等挥发[16]; 然后用浓盐酸将三氧化二砷溶解, 为提高

高纯砷制备研究进展及趋势.pdf

2017年5月11日  2 我国高纯砷的生产及制备技术现状 升华蒸馏法制备高纯砷主要是在真空条件下, 国外能进行 高纯砷生产的国家主要有日本和德 利用砷易升华的性质制备高纯砷,制备设备的材质 国,年产高纯砷分别为70t和50t左右 。目国 易于解决。这种

新材料-公司产业-山东恒邦冶炼股份有限公司

于2020年底完成高纯砷产品的研发及产业化,建成一套年产10吨高纯砷的示范生产线。项目二 期50t/a高纯砷生产线及 高纯碲、高纯硒研发生产线已开始规划实施。 产品展示 恒邦股份高纯新材料研发团队成立于2018年,致力于高纯金属及高纯化合物半导体

180万元/吨,90%靠进口,这一原料很少人国产化,3个原因

180万元/吨,90%靠进口,这一原料很少人国产化,3个原因一针见血. 在去年10月,一条好消息不胫而走,说是我国上市公司 恒邦股份 旗下的子公司已研发成功了纯度达到7.5个9的高纯砷产品,并且正在组建生产线,预计年底就可以打通整个生产工艺。. 众所周知

年产15吨高纯砷生产项目 豆丁网

2012年8月4日  年产15吨高纯砷生产项目. 年产15吨高纯砷生产项目 可行性研究报告 一、立项理由: 1、项目名称: 项目名称:年产15 吨高纯砷生产项目 项目实施单位:某某厂 2、项目内容: 、高纯砷的性质和用途 高纯砷是一种高纯度的砷,为银灰色金属结晶状,质脆而

重有色金属冶炼中砷的脱除与回收.pdf 豆丁网

2012年8月5日  通常采用电热回转窑焙烧法和 湿法提取白砷。 高砷烟尘电热回转窑焙烧法脱砷[12~16] 。不同温 度下的三氧化二砷的蒸气压如表 所示, O3 120会议文集 昶,等:重有色金属冶炼中砷的脱除与回收137 已开始升华,到 500时,其蒸气压达到 101. 324 kPa,便强烈

年产15吨高纯砷生产项目可行性研究报告(16页)-原创力文档

2020年7月16日  可行性研究报告 年产 15 吨高纯砷生产项目 可行性研究报告 1 可行性研究报告 一、立项理由: 1、项目名称: 项目名称:年产 15 吨高纯砷生产项目 项目实施单位:某某厂 2 、项目内容: ①、高纯砷的性质和用途 高纯砷是一种高纯度的砷, 为银灰色金

高纯砷半导体新材料可行性研究报告代理_高纯砷半导_北京

2023年3月11日  高纯砷半导体新材料 项目可行性研究报告编制要点 有些项目的建设体量较大,单独依靠一家企业难以建设完成,这时企业就需要编制项目可行性研究报告,向拟招商的企业展示双方合作的模式,并分析双方合作可以给彼此带来的利益。

高纯砷制备研究进展及趋势_腾讯新闻

高纯砷 高纯砷的生产与应用是继半导体电子管,第二代半导体材料硅取代第一代半导体材料锗后的又一场半导体新材料革命。因其优越的理化性能。 常以化合物砷化镓及通过掺杂于硅材料中等形式应用[2-8] . 作为第三代半导体材料,高纯砷突破了硅材料

砷化学与工艺学_百度百科

《砷化学与工艺学》是2014年10月化学工业出版社出版的图书,作者是水志良、陈起超、水浩东。 本书是有关砷的专著,内容包括砷的历史、物理化学特性,砷的地球化学,矿物、选矿、冶金,化工、煤中砷,砷的三废处

高纯砷制取 豆丁网

2017年6月30日  高纯砷的制取方法有以粗砷为原料和以白砷为原料两种。. 由粗砷制取高纯砷一般以含砷95%~99%的粗砷为原料,工艺流程如图1。. 该流程由真空升华、氯气194氯化、精馏提纯、氢还原等过程组成。. 升华在特制的升华炉中进行,控制温度888K以上,使粗砷

高纯砷制备研究进展及趋势 道客巴巴

2014年6月2日  这种方法可以生产出纯度99.9999%的高纯砷。 图 2 液相氯化-还原法工艺流程图 将工业级白砷在 250~460 ℃下升华提纯得到精制白砷 , 升华过程中加入(NH4)2SO4或其它抑制剂可以防止铅、 锡、 铁等挥发[16]; 然后用浓盐酸将三氧化二砷溶解, 为提高

氢气还原三氯化砷制备高纯砷的工艺研究_百度文库

高温下气态氯化砷与氢气发生还原反应生成高纯砷,主 要的化学反应式如下 :2AsCl3+6H2=6HCl+2As. 取 50mL 三氯化砷加入到石英坩埚中,放入真空管式 炉,抽负压,按一定 n(H2)/n(As)通入高纯氢气,打开管 式炉后续冷却收集装置,保证气体进入冷却收集装置

白砷制取_百科_搜搜钢

2008年8月2日  云南锡业公司第一冶炼厂火法生产白砷的工艺流程如图1。主要设备为外部电加热、用不锈钢板焊制的回转窑,焙烧温度控制在773~873K,加入0.5%~1%无烟煤作还原剂,把As 2 O 5 和砷酸盐还原成As 2 O 3 挥发的As 2 O 3 用冷凝沉降室和布袋收尘器收集。

重有色金属冶炼中砷的脱除与回收.pdf 豆丁网

2012年8月5日  通常采用电热回转窑焙烧法和 湿法提取白砷。 高砷烟尘电热回转窑焙烧法脱砷[12~16] 。不同温 度下的三氧化二砷的蒸气压如表 所示, O3 120会议文集 昶,等:重有色金属冶炼中砷的脱除与回收137 已开始升华,到 500时,其蒸气压达到 101. 324 kPa,便强烈

年产15吨高纯砷生产项目可行性研究报告(16页)-原创力文档

2020年7月16日  可行性研究报告 年产 15 吨高纯砷生产项目 可行性研究报告 1 可行性研究报告 一、立项理由: 1、项目名称: 项目名称:年产 15 吨高纯砷生产项目 项目实施单位:某某厂 2 、项目内容: ①、高纯砷的性质和用途 高纯砷是一种高纯度的砷, 为银灰色金

半导体关键材料打破垄断,高纯砷年底投产,价格或暴涨180倍

2020年10月13日  恒邦高纯新材料有限公司经理邹琳说,“2个9的砷产品一吨卖1万元,而7个9的国外高纯砷产品能卖180万元,这就是差距。 ”恒邦高纯新材料有限公司经理邹琳说,长期以来,国内企业最多只能生产5个9或6个9的砷产品,长期仰日本、美国、德国等发达国家的

砷化镓的制作工艺_制造

2020年12月24日  在砷化稼和器件制造工艺中,需要有门极蚀刻工艺技术,可以减少门极和源极间电阻,并且增加器操作时的崩溃电压,但此制造工艺需要准确的控制蚀刻深度及蚀刻后表面的平整度,临界电压才会平均,也不会有表面状态而造成漏电流及电流无法截止的状况,硅并没有此